Microchip manufacturing: Will nanolithography technology overtake exposure technology using extreme ultraviolet rays?
Abstract
Hiện nay, trong chế tạo vi mạch, công nghệ phơi sáng dùng tia cực tử ngoại (EUV) trong quy trình quang khắc (Lithography) đang chiếm địa vị “độc tôn”. Công ty ASML (Hà Lan) hiện là nhà cung cấp hàng đầu thế giới về thiết bị quang khắc cho ngành công nghiệp bán dẫn...
điểm /
đánh giá
Published
2024-04-10
Issue
Section
KHOA HỌC VÀ CÔNG NGHỆ NƯỚC NGOÀI