Chế tạo vi mạch: Công nghệ in khắc nano sẽ soán ngôi công nghệ phơi sáng dùng tia cực tử ngoại?

  • Đặng Lương Mô

Tóm tắt

Hiện nay, trong chế tạo vi mạch, công nghệ phơi sáng dùng tia cực tử ngoại (EUV) trong quy trình quang khắc (Lithography) đang chiếm địa vị “độc tôn”. Công ty ASML (Hà Lan) hiện là nhà cung cấp hàng đầu thế giới về thiết bị quang khắc cho ngành công nghiệp bán dẫn...

Tác giả

Đặng Lương Mô

Giáo sư danh dự Đại học HOSEI, Tokyo, Nhật Bản
Cố vấn Đại học Quốc gia TP Hồ Chí Minh

điểm /   đánh giá
Phát hành ngày
2024-04-10
Chuyên mục
KHOA HỌC VÀ CÔNG NGHỆ NƯỚC NGOÀI