Ứng dụng của công nghệ lắng đọng lớp nguyên tử trong cảm biến khí

Tóm tắt

Lắng đọng lớp nguyên tử (ALD) là công nghệ chế tạo vật liệu tiên tiến được ứng dụng rộng rãi trong nhiều lĩnh vực khác nhau. Nhờ vào tính chất tự bão hòa của các phản ứng trên bề mặt đế, ALD cho phép lắng đọng vật liệu với độ đồng đều cao trên mọi bề mặt và khả năng điều khiển chính xác kích thước của vật liệu ở mức độ nguyên tử. Do đó, ALD thường được dùng để lắng đọng các màng siêu mỏng hoặc các hạt nano trên bề mặt của các cấu trúc nano dị thể ứng dụng trong cảm biến khí nhằm làm tăng cường các tính chất điện và tính chất nhạy khí của vật liệu. Đặc biệt, trong thời gian gần đây, một số nghiên cứu cho thấy các vật liệu nhạy khí có độ nhạy và độ lặp lại chưa từng có có thể đạt được bằng cách kết hợp các quy trình ALD của các vật liệu khác nhau. Điều này cho thấy tiềm năng lớn của công nghệ ALD trong lĩnh vực cảm biến khí. Trong bài báo tổng quan này, chúng tôi trình bày tóm tắt những ứng dụng gần đây của ALD trong lĩnh vực cảm biến khí. Trong đó, chúng tôi tập trung vào hai ứng dụng chính của công nghệ ALD là biến tính bề mặt của các cấu trúc nano dị thể và chế tạo các vật liệu cảm biến tiên tiến.