CHẾ TẠO CÁC HẠT NANO VÀNG 1-5 nm SỬ DỤNG CHẤT HOẠT ĐỘNG BỀ MẶT CTAB THEO PHƯƠNG PHÁP MICELL

Tóm tắt

Bài báo này trình bày cách chế tạo các hạt nano vàng kích thước nhỏ theo phương pháp khử hóa học bằng cách sử dụng NaBH₄ làm chất khử cho tiền chất HAuCl₄ trong sự có mặt của CTAB. Trong phản ứng này, CTAB không những đóng vai trò là chất khử mà còn đóng vai trò là chất hoạt động bề mặt cần thiết để tạo các hạt nano vàng đồng đều về kích thước, đặc biệt là các hạt nano vàng có cấu trúc tinh thể. Các hạt nano vàng đã được tổng hợp bằng phương pháp micecell với nồng độ CTAB thay đổi từ 0,05M đến 0,1 M; nồng độ ion Au³⁺ thay đổi từ 2,5*10^-4M đến 1,5*10^-3M với thời gian khảo sát trong hai tuần. Hình thái và kích thước hạt được xác định bằng ảnh hiển vi điện tử truyền qua TEM, tính chất quang được khảo sát bằng phổ hấp thụ UV-VIS. Kết quả cho thấy, vật liệu có kích thước phân bố từ 1 nm đến 5 nm và kích thước có xu hướng tăng theo thời gian bảo quản tại nhiệt độ phòng. Đồng thời, khi nồng độ tiền chất không đổi, nồng độ CTAB càng thấp thì kích thước hạt càng phát triển mạnh theo thời gian. Khi nồng độ CTAB không đổi, lượng tiền chất HAuCl₄ càng lớn thì kích thước hạt cũng càng lớn. Với nồng độ CTAB bằng 0,01 M, nồng độ muối vàng cần lựa chọn phải cỡ 10^-3 M, các hạt có đường kính cỡ 5 nm được tạo ra.