Chế tạo và hoạt hóa bề mặt sợi nano platin ứng dụng trong định lượng glucose

Tóm tắt

Trong bài báo này, một phương pháp mới - lắng đọng và ăn mòn dưới góc nghiêng (Deposition and Etching under Angle - DEA) được nghiên cứu để chế tạo số lượng lớn chip sợi nano platin ở qui mô cả phiến và các chip chế tạo ra có thể sử dụng ngay trong các đo đạc thực nghiệm tiếp theo. Phương pháp chế tạo này sử dụng những kỹ thuật cơ bản của công nghệ chế tạo micro thông thường, như là quang khắc quang học, lắng đọng màng mỏng và ăn mòn ion ở qui mô cả phiến, để chế tạo các dãy sợi nano platin trên phiến silic với lớp cách điện silic điôxít. Chip sợi nano platin được chế tạo bên trên sau đó được hoạt hóa bằng các loại hóa chất khác nhau như là hỗn hợp của gel gelatin với SiO2, popyvinyl ancol (PVA) và lớp đơn phân tử tự lắp ghép cysteamine (SAM). Sau đó, enzyme glucose oxidase được gắn lên các chip đã được hoạt hóa bề mặt để xác định nồng độ glucose trong dung dịch nước. Kết quả khảo sát chỉ ra rằng enzyme glucose oxidase (GOD) đã được gắn kết thành công lên bề mặt sợi platin được hoạt hóa bằng các phương pháp nêu trên và độ nhạy cao nhất của các chip với dung dịch glucose là 60 μM với chip được hoạt hóa bằng phương pháp polyme hóa sử dụng polyvinyl ancol (PVA) với màng trung chuyển điện tử là Prussian Blue (PB). Bên cạnh đó, đối với chip được hoạt hóa bằng phương pháp lớp đơn phân tử tự lắp ghép cysteamine thì cường độ dòng đo được có giá trị lớn nhất.